s736 2007-12-07 14:37
请教大家XPS中氩离子刻蚀导致元素缺失问题
大家好！
我是做透明导电薄膜的学生，我在测试掺锑和掺氟氧化锡薄膜成分时，发现XPS全谱测不出锑元素的结合能峰，但从掺杂量和SEM能谱结果来看肯定是有的，考虑了很长时间，我认为是在氩离子刻蚀时发生了单个元素被择优刻蚀掉的现象，但这方面的资料和知识我仅查到1篇论文，希望能够有高人相助，谢谢。
baogangguo 2007-12-07 15:22
真的可能有那种情况，你可以不用Ar离子溅射啊，直接做看看！（如果不做断面元素剖析的话）
lsly 2007-12-07 16:32
直接发消息请教nanoquebec老师吧，这样节省时间。。。
nano 2007-12-09 12:54
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你的问题是测不到锑元素的光电子峰。估计是你的掺杂浓度较低的缘故。因为光电子的探测灵敏度一般在0.1%。有些低灵敏度的元素可能只能探测到1%。eds（或者edx）的探测灵敏度相对高一些。特别是重元素，eds的探测灵敏度高于xps，对于轻元素，xps的探测里面的相对好一些。
你的问题不属于择优溅射的问题。因为择优溅射优先溅射掉轻的元素，而不是较重的锑元素。