查看完整版本: PVD制备TiO2光催化膜

PVD制备TiO2光催化膜

最近对使用PVD特别是溅射方法制备具有可见光活性的TiO2催化薄膜（掺杂，多层膜），但似乎很多还都是在实验研究阶段，并没有实际应用的报道。这种方法是否有前途？

溅射的方法特别粗糙我不知道他到底能不能作出多空的结构

回复 #2 fatebird 的帖子

可以考虑用掠射角沉积来做出多孔的薄膜。最近这几年有好多文献。可以查到。比如J.Vac.Sci.Technol.　Ａ杂志等

谢谢楼上两位的建议。对于用掠射角沉积来做出多孔的薄膜我倒是没有考虑到。但我有个困惑，如果要得到多孔的薄膜，则结晶度可能不会太好，特别是希望的锐钛矿；而要得到锐钛矿那么薄膜就致密起来了，这要从沉积理论上去考虑。很多人做过金属或者金属氧化物掺杂的，也有做为非金属掺杂的如N、C等，似乎都有利于红移，但是沉积的温度又非常高，或者是在低温下制备然后再去退火，这样的话就又影响了规模化的应用。最近比较关注的是TiO2/WO3多层膜，如果TiO2在掺杂点N是不是会更好些，而调制周期在小些是否也会利用其界面之间的不稳定性呢？而我看到的另外一篇文章是重庆大学黄佳木等人发表在《环境科学学报》（2006-04，PP620-625）上的——非晶态的TiO2—W薄膜的光催化性能研究，其结果还是不错的，但是我怀疑它是否是真的非晶。
"~.G$U7p f9oX NF@$sQC@N5g3p5e
不知道如何上传这篇文章，抱歉。

有三篇这方面的文章请打开连接：R(Xai.nV.@ANmz
[url]http://kenbah.gbaopan.com/files/eba6ccef01e541a79bcc802c37bd2df1.gbp[/url]